题目内容：

三氟化氮(NF3)应用于微电子工业中的等离子刻蚀气体。已知NF3 在潮湿的环境中能发生反应I：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF，NF3能有效地刻蚀二氧化硅，发生反应II:4NF3+3SiO2=2NO+2NO2+3SiF4。下列有关说法正确的是

A. 反应I和Ⅱ中NF3都作氧化剂

B. 3mol NF3气体与水充分反应共转移3mol电子

C. 反应Ⅱ中还原剂和氧化剂的物质的量之比是4:3

D. NF3泄漏可以用NaOH溶液吸收