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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是 A. NF3是氧化剂,H2O是还原剂 B. 还原剂...

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