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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是 A. NF3是氧化剂,H2O是还原剂 B. 还原剂...
题目内容:
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是
A. NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B. 还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1
C. 若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D. NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
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