题目内容：

半导体工业会产生含氨氟酸的废水。完成下列填空:

(1)为了测定某含氢氟酸的废水中HF浓度，量取25.00 mL废水，滴入2~3滴酚酞试液，用0.0100 mol/L标准NaOH溶液滴定，用去26.00 mL。滴定终点的判断方法是_______________________。废水中的c(HF) =_________mol/L。 (精确到 0.0001)

(2)工业上用石灰乳处理含氢氟酸的废水，处理时要控制反应池中呈碱性，目的是_______。

(3)用石灰乳处理含氢氟酸的废水时，会得到含氟底泥(主要含CaF2、CaCO3、CaSO4)，含氟底泥可用于制取氟化钙，其生产流程如下:

已知：氟化钙难溶于水，微溶于无机酸。

①“沉淀转化”的目的是将CaSO4转化为CaCO3，试从平衡移动的角度分析，沉淀能够转化的原理。____________________________________________________________。

②酸洗是为了除去CaCO3，酸洗时发生反应的离子方程式为______________________。

③最终得到的产品质量比底泥中CaF2的质量__________ (填“多"、“少”或“相等”)，理由是____________________________________________________________。