下列关于无机物应用的叙述正确的是（ ） A.湿法脱除烟气中的NO，是利用的氧化性 B.半导体工业中可用氢氟酸除去硅片表面的层，是因为HF具有强酸性 C.法利用溶液脱除烟气中的，是利用溶液呈酸性 D.用...
2022-10-19 21:59:57 204次 2020届高三化学二轮冲刺新题专练氨气性质和应用 单选题 反馈错误 加入收藏 正确率 : 100%
题目内容：
下列关于无机物应用的叙述正确的是（ ）
A.
湿法脱除烟气中的NO，是利用的氧化性
B.半导体工业中可用氢氟酸除去硅片表面的
层，是因为HF具有强酸性
C.
法利用
溶液脱除烟气中的
，是利用溶液呈酸性
D.用氨水除去铜器表面的
转化为
，是利用
的还原性
本题链接：
