题目内容：

半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷(白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如下图所示:(部分夹持装置略去)

 

已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5。PCl3遇水会强烈水解生成H3PO3和HCl,遇O2会生成POCl3,POCl3溶于PCl3。PCl3、POCl3的熔沸点见下表:

物质	熔点/℃	沸点/℃
PCl3	-112	75.5
POCl3	2	105.3

 

请回答下列问题:

(1)A装置中制氯气的离子方程式为　　　　　　　　　　　　。 

(2)B中所装试剂是　　　　　,E中冷水的作用是　　　　　　　　,F中碱石灰的作用是　　　　　　　　　　。 

(3)实验时,检查装置气密性后,先打开K3通入干燥的CO2,再迅速加入黄磷。通入干燥CO2的作用是　　　　　　　　　　　　。通过控制K1、K2能除去A、B装置中的空气,具体的方法是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。 

(4)粗产品中常含有POCl3、PCl5等。加入黄磷加热除去PCl5后,通过　　　　　(填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl3。