用SiHCl3在加热条件下与过量H2反应制备纯硅的装置如图（热源及夹持装置略去）： 已知：SiHCl3沸点为33℃，能与和H2O强烈反应，在空气中易自燃； 请问答： （1）依次连接的合理顺序为__。 ...
2022-07-31 20:00:01 40次 浙江省宁波十校2020届高三3月联考化学试卷 实验题 反馈错误 加入收藏 正确率 : 100%
题目内容：
用SiHCl3在加热条件下与过量H2反应制备纯硅的装置如图（热源及夹持装置略去）：
已知：SiHCl3沸点为33℃，能与和H2O强烈反应，在空气中易自燃；
请问答：
（1）依次连接的合理顺序为__。
（2）操作时应先打开装置__（选填“C”或“D”）中分液漏斗的旋塞，理由是__。
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