题目内容：

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物已略去):

已知:

I. (R1、R2 为烃基或氢原子)

II. (R1、R2 为烃基或氢原子)

(1)A的化学名称是_________________。C 中官能团的名称是____________________。

(2)C→D 的反应类型是____________，E 的结构简式是_________________________。

(3)D+G→光刻胶的化学方程式为_____________________________。

(4)H是C的同分异构体，具有下列性质或特征:①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴水褪色；③属于芳香族化合物，则H 的结构有_____种。其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1: 1:2:2:2的结构简式为_____________________________。

(5)根据已有知识并结结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2CH2OH的合成路线流程图(无机试剂任用)___________________________________________。合成路线流程图示例如下: