题目内容：

印刷铜制电路板的蚀刻液选取和回收再利用一直是研究的热点。

（1）FeCl3溶液一直作为传统的蚀刻液。

①蚀刻过程屮的离子方程式为______________________________。

②蚀刻结束后，可以通过两步先分离出铜，冉实现FcCl3溶液再生。

i.第1步所加试剂和操作分别为____________________________。

ii.第2步转化可加入的物质是_________________________(填一种即可)。

（2）H2O2也常用来做铜制电路板蚀刻液，使用时加入盐酸或氨水将其配制成酸性或碱性蚀刻液。应用酸性蚀刻液(HCl－H2O2)，产生的蚀刻废液处理方法如下：

①蚀刻铜板主要反应的离子方程式为_______________________。

②回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A是______(填字母)。

a.Fe粉    b.葡萄糖    C.NaCl固体   d.酸性KMnO4溶液

③回收Cu2(OH)2CO3的过程屮需控制反应的温度，当温度髙于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是______________________。

④如图是研究碱性蚀刻液的温度对锏腐蚀量的实验结果，升高温度，腐蚀量变化的原因______________________。

（3）与常规方法不同，有研究者用HCl－CuCl2做蚀刻液。蚀铜结束，会产生大量含Cu+废液，采用如图所示方法，可达到蚀刻液再生、回收金属铜的目的。此法采用掺硼的人造钻石BDD电极，可直接从水中形成一种具有强氧化性的氡氧自由基(HO·)，请写出BDD电极上的电极反应__________________，进一步溶液中反应可实现蚀刻液再生，请写出刻蚀液再生的离子方程式_________________。