题目内容：

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):

已知：

Ⅰ．(R1，R2为烃基或氢)

Ⅱ． (R1，R2为烃基)

(1)B分子中所含官能团的名称为_______________，由F到G的反应类型为__________；

(2)乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E加聚后产物F的结构简式为__________________________；

(3)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_________________________；

(4)C的一种同分异构体满足下列条件:

①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应

②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。

(5)根据已有知识并结合本题信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用，合成路线流程图示例见本题题干)  ______________________________________________________。